無(wú)機(jī)非金屬材料研究方法（第2版）

1 緒論
1．1 材料結(jié)構(gòu)及其層次
1．2 研究方法的種類(lèi)
1．2．1 圖像分析法
1．2．2 非圖像分析法
2 光學(xué)顯微分析
2．1 晶體光學(xué)基礎(chǔ)
2．1．1 可見(jiàn)光的一般知識(shí)
2．1．2 光性均質(zhì)體和光性非均質(zhì)體
2．1．3 光率體
2．1．4 光性方位
2．2 偏光顯微鏡及薄片的制備
2．2．1 偏光顯微鏡的構(gòu)造
2．2．2 偏光顯微鏡的調(diào)節(jié)和校正
2．2．3 偏光顯微鏡研究試樣的制備
2．3 偏光顯微鏡下礦物的光學(xué)性質(zhì)
2．3．1 單偏光系統(tǒng)下礦物的光學(xué)性質(zhì)
2．3．2 正交偏光系統(tǒng)下礦物的光學(xué)性質(zhì)
2．3．3 聚斂偏光系統(tǒng)下礦物的光學(xué)性質(zhì)
2．4 反光顯微鏡光片研究
2．4．1 反射光學(xué)基礎(chǔ)
2．4．2 反光顯微鏡
2．4．3 反光顯微鏡試樣的制備
2．4．4 反射光下礦物的光學(xué)性質(zhì)
習(xí)題與思考題
3 X射線衍射分析
3．1 X射線的物理基礎(chǔ)
3．1．1 X射線的本質(zhì)
3．1．2 X射線的強(qiáng)度
3．1．3 X射線的產(chǎn)生
3．1．4 X射線的性質(zhì)
3．1．5 X射線譜
3．1．6 X射線與物質(zhì)的相互作用
3．2 X射線衍射的幾何條件
3．2．1 勞埃方程
3．2．2 布拉格方程
3．2．3 厄瓦爾德圖解
3．3 X射線衍射強(qiáng)度
3．3．1 一個(gè)電子對(duì)X射線的散射強(qiáng)度
3．3．2 一個(gè)原子對(duì)X射線的散射強(qiáng)度
3．3．3 一個(gè)晶胞對(duì)X射線的散射強(qiáng)度
3．3．4 一個(gè)小晶體對(duì)X射線的散射強(qiáng)度和衍射積分強(qiáng)度
3．3．5 粉末多晶的衍射積分強(qiáng)度
3．3．6 影響衍射強(qiáng)度的其他因素
3．4 X射線衍射方法
3．4．1 單晶體衍射方法
3．4．2 多晶體衍射方法
3．5 物相分析
3．5．1 物相定性分析
3．5．2 物相定量分析