1 緒論
1.1 材料結構及其層次
1.2 研究方法的種類
1.2.1 圖像分析法
1.2.2 非圖像分析法
2 光學顯微分析
2.1 晶體光學基礎
2.1.1 可見光的一般知識
2.1.2 光性均質體和光性非均質體
2.1.3 光率體
2.1.4 光性方位
2.2 偏光顯微鏡及薄片的制備
2.2.1 偏光顯微鏡的構造
2.2.2 偏光顯微鏡的調節(jié)和校正
2.2.3 偏光顯微鏡研究試樣的制備
2.3 偏光顯微鏡下礦物的光學性質
2.3.1 單偏光系統(tǒng)下礦物的光學性質
2.3.2 正交偏光系統(tǒng)下礦物的光學性質
2.3.3 聚斂偏光系統(tǒng)下礦物的光學性質
2.4 反光顯微鏡光片研究
2.4.1 反射光學基礎
2.4.2 反光顯微鏡
2.4.3 反光顯微鏡試樣的制備
2.4.4 反射光下礦物的光學性質
習題與思考題
3 X射線衍射分析
3.1 X射線的物理基礎
3.1.1 X射線的本質
3.1.2 X射線的強度
3.1.3 X射線的產生
3.1.4 X射線的性質
3.1.5 X射線譜
3.1.6 X射線與物質的相互作用
3.2 X射線衍射的幾何條件
3.2.1 勞埃方程
3.2.2 布拉格方程
3.2.3 厄瓦爾德圖解
3.3 X射線衍射強度
3.3.1 一個電子對X射線的散射強度
3.3.2 一個原子對X射線的散射強度
3.3.3 一個晶胞對X射線的散射強度
3.3.4 一個小晶體對X射線的散射強度和衍射積分強度
3.3.5 粉末多晶的衍射積分強度
3.3.6 影響衍射強度的其他因素
3.4 X射線衍射方法
3.4.1 單晶體衍射方法
3.4.2 多晶體衍射方法
3.5 物相分析
3.5.1 物相定性分析
3.5.2 物相定量分析