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內(nèi)容簡(jiǎn)介

　　《金剛石膜粒子探測(cè)器材料》系統(tǒng)介紹了金剛石膜材料的物理性能、制備工藝技術(shù)以及材料與光電探測(cè)器件的關(guān)系和原理。其物理性能包括膜的結(jié)構(gòu)、表面、界面及摻雜對(duì)熱和光電性能的影響；制備工藝技術(shù)包括不同材質(zhì)的襯底處理，詳盡地描述了微波等離子體和熱絲輔助化學(xué)氣相沉積法制備金剛石膜的工藝及各種檢測(cè)分析技術(shù)；從半導(dǎo)體器件物理原理出發(fā)闡述了金剛石膜粒子探測(cè)器的性能及與材料間內(nèi)在聯(lián)系。詳盡報(bào)道了國(guó)內(nèi)外該領(lǐng)域的研究動(dòng)態(tài)?！督饎偸ちＷ犹綔y(cè)器材料》可供從事金剛石膜研究和生產(chǎn)的科研人員、工程技術(shù)人員和研究生閱讀參考，也可作為光電子材料與元器件等有關(guān)專業(yè)的教學(xué)參考書。

作者簡(jiǎn)介

　　夏義本，祖籍浙江寧波，1942年12月生于上海。1965年畢業(yè)予復(fù)旦大學(xué)物理系半導(dǎo)體物理專業(yè)，1981年獲中國(guó)科學(xué)院理學(xué)碩士，曾任德國(guó)維爾茨堡大學(xué)物理研究所訪問學(xué)者、德國(guó)弗勞恩霍夫薄膜及表面技術(shù)研究所客座教授、日本東北大學(xué)材料研究所客座教授。1965-1978年在北京電子管廠從事半導(dǎo)體元器件研發(fā)工作：1981-1994年在上?？萍即髮W(xué)材料科學(xué)與工程系歷任教授、功能薄膜材料與器件研究室主任、系主任；1994年后歷任上海大學(xué)材料科學(xué)與工程學(xué)院博士生導(dǎo)師、首聘二級(jí)教授、院長(zhǎng)。2013年初退休。

圖書目錄

叢書序
前言
第一章緒論
1．1 金剛石膜的結(jié)構(gòu)
1．2 金剛石膜的優(yōu)異特性
1．3 化學(xué)氣相沉積法金剛石膜的制備技術(shù)
1．4 金剛石膜在光電領(lǐng)域中的主要應(yīng)用
參考文獻(xiàn)
第二章自支撐金剛石膜的制備
2．1 實(shí)驗(yàn)設(shè)備及原理介紹
2．2 金剛石膜的制備工藝研究
2．3 自支撐金剛石薄膜的性能
參考文獻(xiàn)
第三章金剛石膜表面導(dǎo)電性能研究
3．1 引言
3．2 實(shí)驗(yàn)過程
3．3 自支撐金剛石膜的導(dǎo)電性能
3．4 本章小結(jié)
參考文獻(xiàn)
第四章金剛石膜肖特基場(chǎng)效應(yīng)晶體管
4．1 引言
4．2 金剛石與金屬電極的接觸特性
4．3 MESFET器件制備及性能研究
4．4 本章小結(jié)
參考文獻(xiàn)
第五章金剛石膜紫外光探測(cè)器
5．1 引言
5．2 ZnO材料概述
5．3 ZnO制備及測(cè)試
5．4 實(shí)驗(yàn)結(jié)果與討論
5．5 ZnO/金剛石結(jié)構(gòu)紫外光探測(cè)器的性能研究
5．6 本章小結(jié)
參考文獻(xiàn)
第六章金剛石厚膜生長(zhǎng)及其在微電子器件中的熱沉應(yīng)用
6．1 引言
6．2 氧化鋁襯底的碳離子預(yù)注入
6．3 氧化鋁上金剛石膜的成核分析
6．4 金剛石的厚膜生長(zhǎng)及應(yīng)力分析
6．5 金剛石薄膜/氧化鋁復(fù)合材料性質(zhì)研究
參考文獻(xiàn)
第七章納米金剛石膜X射線探測(cè)器
7．1 納米金剛石膜的制備和性能表征
7．2 納米金剛石膜粒子探測(cè)器工藝及性能表征
7．3 氫刻蝕對(duì)納米金剛石膜電學(xué)和光學(xué)性能的影響
7．4 強(qiáng)磁場(chǎng)下納米金剛石膜生長(zhǎng)及性能表征
參考文獻(xiàn)
第八章金剛石膜α粒子探測(cè)器
8．1 CVD金剛石膜粒子探測(cè)器的研制
8．2 CVD金剛石膜/硅為基板的微條氣體室研制
參考文獻(xiàn)
……
第九章粒子探測(cè)器讀出電路電子系統(tǒng)
第十章金剛石膜生物傳感器及在其它光電聲等領(lǐng)域應(yīng)用