硅鍺的性質(zhì)

第一章 引言
　1.1 應(yīng)力引起的外延薄膜的形貌不穩(wěn)定性和成島
　1.2 SiGe／Si系統(tǒng)中失配位錯網(wǎng)絡(luò)的平衡理論
　1.3 SiGe／Si系統(tǒng)中亞穩(wěn)應(yīng)變層的結(jié)構(gòu)
第二章 結(jié)構(gòu)特性
　2.1 SiGe合金系的晶體結(jié)構(gòu)、晶格常數(shù)和固一液相圖
　2.2 SiGe合金的有序性
　2.3 Si／Ge界面：結(jié)構(gòu)、能量和互擴散
第三章 熱學(xué)、力學(xué)和晶格振動學(xué)性質(zhì)
　3.1 SiGe的彈性常數(shù)
　3.2 SiGe的熱力學(xué)性質(zhì)
　3.3 SiGe中的光學(xué)聲子、聲學(xué)聲子和Raman光譜
第四章 能帶結(jié)構(gòu)
　4.1 SiGe的能隙和能帶結(jié)構(gòu)及它們同溫度的依賴關(guān)系
　4.2 應(yīng)變對SiGe價帶結(jié)構(gòu)的影響
　4.3 應(yīng)變對SiGe導(dǎo)帶結(jié)構(gòu)的影響
　4.4 SiGe中的有效質(zhì)量
　4.5 SiGe異質(zhì)結(jié)和帶偏移
　4.6 SiGe的光譜
　4.7 弛豫的SiGe合金的光學(xué)函數(shù)及應(yīng)變對光學(xué)函數(shù)的影響
第五章 運輸特性
　5.1 SiGe/Si 系中的電子和空穴的遷移率
　5.2 Si/SiGe 異質(zhì)結(jié)的注入
　5.3 SiGe/Si 結(jié)構(gòu)中的磁運輸特性
第六章 表面性質(zhì)
第七章 Si 基器件的結(jié)構(gòu)和重要數(shù)據(jù)集錦