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集成電路工藝基礎(chǔ)

集成電路工藝基礎(chǔ)

定　價(jià)：￥7.25

作　者： 王陽(yáng)元等編著
出版社： 高等教育出版社
叢編項(xiàng)： 固體物理教學(xué)叢書(shū)
標(biāo)　簽： 暫缺
ISBN： 9787040033144 出版時(shí)間： 1991-01-01 包裝：
開(kāi)本： 21cm 頁(yè)數(shù)： 610頁(yè) 字?jǐn)?shù)：  

內(nèi)容簡(jiǎn)介

　　本書(shū)主要內(nèi)容有：硅晶體結(jié)構(gòu)，擴(kuò)散、離子注入、外延、氧化、化學(xué)汽相淀積、光刻、刻蝕等十二章。

作者簡(jiǎn)介

暫缺《集成電路工藝基礎(chǔ)》作者簡(jiǎn)介

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