污水化學(xué)處理技術(shù)與設(shè)備

第1章緒論1
1.1污水的來(lái)源與分類1
1.1.1污水的來(lái)源1
1.1.2污水的分類2
1.2污水的水質(zhì)及危害4
1.2.1污水的水質(zhì)4
1.2.2污水的危害6
1.3污水處理政策解讀7
1.3.1排放達(dá)標(biāo)期7
1.3.2水回用期8
1.3.3全組分利用期9
1.3.4資源化利用的方式11
1.4污水處理的方式與方法11
1.4.1污水處理的原則11
1.4.2污水處理的方式12
1.4.3污水的處理方法12
1.5污水化學(xué)處理技術(shù)與設(shè)備13
1.5.1化學(xué)處理技術(shù)的適用條件13
1.5.2化學(xué)處理技術(shù)的分類13
第2章中和技術(shù)與設(shè)備16
2.1技術(shù)原理162.2工藝過(guò)程17
2.2.1酸性污水的中和17
2.2.2堿性污水的中和22
2.3過(guò)程設(shè)備22
2.3.1加藥設(shè)備22
2.3.2中和設(shè)備26
2.3.3堿性污水中和設(shè)備30
第3章離子交換技術(shù)與設(shè)備31
3.1技術(shù)原理31
3.1.1交換反應(yīng)平衡31
3.1.2交換反應(yīng)速率33
3.1.3交換反應(yīng)特性34
3.1.4軟化除鹽原理36
3.2工藝過(guò)程37
3.2.1軟化工藝37
3.2.2軟化除堿工藝37
3.2.3除鹽工藝39
3.2.4污水處理流程41
3.3過(guò)程設(shè)備44
3.3.1離子交換器44
3.3.2再生系統(tǒng)61
3.3.3除二氧化碳器62
3.3.4離子交換裝置的設(shè)計(jì)63
第4章化學(xué)沉淀技術(shù)與設(shè)備65
4.1技術(shù)原理65
4.1.1沉淀反應(yīng)65
4.1.2影響因素66
4.2工藝過(guò)程67
4.2.1過(guò)程分類67
4.2.2工藝流程76
4.3過(guò)程設(shè)備77
4.3.1加藥設(shè)備77
4.3.2混合設(shè)備77
4.3.3反應(yīng)設(shè)備81
4.3.4沉淀設(shè)備87
4.3.5清泥設(shè)備99
第5章常溫氧化技術(shù)與設(shè)備106
5.1空氣氧化技術(shù)及設(shè)備106
5.1.1技術(shù)原理106
5.1.2工藝過(guò)程109
5.1.3過(guò)程設(shè)備110
5.2臭氧氧化技術(shù)與設(shè)備117
5.2.1技術(shù)原理117
5.2.2工藝過(guò)程118
5.2.3過(guò)程設(shè)備120
5.3過(guò)氧化氫氧化技術(shù)與設(shè)備127
5.3.1技術(shù)原理127
5.3.2工藝過(guò)程128
5.3.3過(guò)程設(shè)備129
5.4Fenton氧化技術(shù)與設(shè)備130
5.4.1技術(shù)原理130
5.4.2工藝過(guò)程131
5.4.3過(guò)程設(shè)備134
5.5氯氧化技術(shù)與設(shè)備136
5.5.1液氯氧化技術(shù)與設(shè)備136
5.5.2化合氯氧化技術(shù)與設(shè)備142
5.5.3二氧化氯氧化技術(shù)與設(shè)備145
第6章高溫氧化技術(shù)與設(shè)備152
6.1焚燒技術(shù)與設(shè)備152
6.1.1技術(shù)原理152
6.1.2工藝過(guò)程153
6.1.3過(guò)程設(shè)備160
6.2濕式空氣氧化技術(shù)與設(shè)備165
6.2.1技術(shù)原理165
6.2.2工藝過(guò)程169
6.2.3過(guò)程設(shè)備173
6.3超臨界水氧化技術(shù)與設(shè)備174
6.3.1技術(shù)原理174
6.3.2工藝過(guò)程181
6.3.3過(guò)程設(shè)備192
第7章場(chǎng)氧化技術(shù)與設(shè)備200
7.1電化學(xué)氧化技術(shù)與設(shè)備200
7.1.1技術(shù)原理200
7.1.2工藝過(guò)程201
7.1.3過(guò)程設(shè)備204
7.2光化學(xué)氧化技術(shù)與設(shè)備212
7.2.1技術(shù)原理213
7.2.2工藝過(guò)程215
7.2.3過(guò)程設(shè)備220
7.3光催化氧化技術(shù)與設(shè)備221
7.3.1技術(shù)原理221
7.3.2工藝過(guò)程224
7.3.3過(guò)程設(shè)備225
7.4光電催化氧化技術(shù)與設(shè)備234
7.4.1技術(shù)原理234
7.4.2工藝過(guò)程235
7.4.3過(guò)程設(shè)備238
7.5超聲氧化技術(shù)與設(shè)備239
7.5.1技術(shù)原理239
7.5.2工藝過(guò)程241
7.5.3過(guò)程設(shè)備244
7.6輻射氧化技術(shù)與設(shè)備244
7.6.1技術(shù)原理245
7.6.2工藝過(guò)程249
7.6.3過(guò)程設(shè)備258
7.7微波處理技術(shù)與設(shè)備259
7.7.1技術(shù)原理259
7.7.2工藝過(guò)程259
7.7.3過(guò)程設(shè)備261
第8章還原技術(shù)與設(shè)備262
8.1化學(xué)還原技術(shù)與設(shè)備262
8.1.1技術(shù)原理262
8.1.2工藝過(guò)程263
8.1.3過(guò)程設(shè)備266
8.2電化學(xué)還原技術(shù)與設(shè)備266
8.2.1技術(shù)原理266
8.2.2工藝過(guò)程266
8.2.3過(guò)程設(shè)備268
8.3光催化還原技術(shù)與設(shè)備270
8.3.1技術(shù)原理270
8.3.2工藝過(guò)程271
8.3.3過(guò)程設(shè)備271
參考文獻(xiàn)272