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內(nèi)容簡(jiǎn)介

　　本書(shū)根據(jù)國(guó)內(nèi)外近十幾年來(lái)氧化物半導(dǎo)體TiO2和WO3的氧空位調(diào)控及其光學(xué)、電學(xué)和磁學(xué)特性的研究進(jìn)展，結(jié)合作者的研究成果撰寫(xiě)而成，系統(tǒng)地介紹了采用離子注入、水熱法和真空退火等技術(shù)方法，通過(guò)對(duì)TiO2和WO3氧空位缺陷的分布、濃度的調(diào)控，進(jìn)而實(shí)現(xiàn)對(duì)光學(xué)、電學(xué)和磁學(xué)性質(zhì)的調(diào)制，獲得更為理想的鐵磁性能和表面增強(qiáng)拉曼光譜性能。本書(shū)主要內(nèi)容包括TiO2和WO3的研究現(xiàn)狀、摻雜和氧空位缺陷調(diào)控技術(shù)以及氧空位對(duì)TiO2和WO3的表面增強(qiáng)拉曼光譜、電學(xué)和鐵磁等方面性能的影響研究。本書(shū)可供從事半導(dǎo)體材料和器件方面研究的專業(yè)人員使用，也可作為大中專院校相關(guān)專業(yè)師生的參考書(shū)。

作者簡(jiǎn)介

　　無(wú)

圖書(shū)目錄

1.1.1TiO2 和WO3 的晶體結(jié)構(gòu)003
1.1.2半導(dǎo)體材料光電響應(yīng)機(jī)理006
1.1.3TiO2 和WO3 的應(yīng)用、性能與研究現(xiàn)狀009
1.1.4半導(dǎo)體材料光電性能影響因素與改善策略014
1.2TiO2和WO3中的缺陷017
1.2.1氧空位缺陷類型017
1.2.2氧空位對(duì)TiO2 和WO3 物理化學(xué)性能的影響017
1.3富含氧空位缺陷TiO2和WO3的研究現(xiàn)狀024
1.3.1富含氧空位缺陷TiO2 和WO3 的磁學(xué)性能024
1.3.2富含氧空位缺陷TiO2 和WO3 的表面增強(qiáng)拉曼性能025
參考文獻(xiàn)026
第2章TiO2和WO3薄膜制備方法與實(shí)驗(yàn)方法045
2.1薄膜的制備方法047
2.1.1濺射法制備WO3 薄膜047
2.1.2水熱法制備TiO2 納米薄膜052
2.2TiO2和WO3氧空位缺陷的調(diào)控方法053
2.2.1氫熱處理法053
2.2.2金屬和非金屬離子摻雜法054
2.2.3反應(yīng)條件驅(qū)動(dòng)法054
2.2.4高能粒子轟擊法055
2.2.5缺氧條件下熱處理法056
2.3實(shí)驗(yàn)方法057
2.3.1掃描電子顯微鏡057
2.3.2透射電子顯微鏡058
2.3.3吸收光譜058
2.3.4拉曼散射譜059
2.3.5X 射線光電子能譜060
2.3.6X 射線衍射譜060
2.3.7電阻率測(cè)試061
2.3.8霍爾效應(yīng)測(cè)量系統(tǒng)062
2.3.9綜合物性測(cè)量系統(tǒng)063
2.3.10基于SERS 效應(yīng)的分子檢測(cè)063
2.4性原理計(jì)算方法064
參考文獻(xiàn)067
第3章離子注入誘導(dǎo)氧空位對(duì)WO3薄膜電導(dǎo)率的影響075
3.1概述077
3.2實(shí)驗(yàn)過(guò)程079
3.3結(jié)果與討論080
3.3.1離子注入模擬080
3.3.2樣品微結(jié)構(gòu)081
3.3.3SEM 圖082
3.3.4電阻率083
3.3.5XPS 圖譜086
參考文獻(xiàn)088
第4章Ar 輻照WO3薄膜中氧空位增強(qiáng)的室溫鐵磁性093
4.1概述095
4.2實(shí)驗(yàn)過(guò)程096
4.3結(jié)果和討論097
4.3.1離子注入模擬097
4.3.2SEM 圖098
4.3.3XRD 圖譜099
4.3.4Raman 圖譜101
4.3.5AFM 圖102
4.3.6PL 圖譜103
4.3.7室溫磁學(xué)性能104
4.3.8XPS 圖譜105
4.3.9鐵磁性的機(jī)制107
參考文獻(xiàn)110
第5章W18O49納米線中缺陷引起的鐵磁性117
5.1概述119
5.2實(shí)驗(yàn)過(guò)程121
5.3結(jié)果和討論122
5.3.1XRD 圖譜122
5.3.2SEM 和TEM 圖譜124
5.3.3XPS 圖譜125
5.3.4室溫磁學(xué)特性127
5.3.5EPR 圖譜128
參考文獻(xiàn)130
第6章富含氧空位的W18O49納米結(jié)構(gòu)的光催化抗菌性能137
6.1概述139
6.2實(shí)驗(yàn)過(guò)程140
6.3結(jié)果和討論141
6.3.1XRD 圖譜141
6.3.2SEM 和TEM 圖像142
6.3.3XPS 圖譜143
6.3.4EPR 圖譜145
6.3.5抗菌特性146
6.3.6抗菌機(jī)制146
參考文獻(xiàn)148
第7章熱處理制備具有高SERS 靈敏度的穩(wěn)定非化學(xué)
計(jì)量WO3-x 薄膜153
7.1概述155
7.2實(shí)驗(yàn)過(guò)程156
7.3結(jié)果和討論157
7.3.1XRD、Raman 和PL 圖譜157
7.3.2XPS 圖譜160
7.3.3EPR 圖譜164
7.3.4SERS 性能和機(jī)制165
7.3.5氧空位形成能計(jì)算168
參考文獻(xiàn)171
第8章真空退火增強(qiáng)TiO2納米棒薄膜的SERS 靈敏度177
8.1概述179
8.2實(shí)驗(yàn)過(guò)程180
8.3結(jié)果和討論182
8.3.1SERS 性能182
8.3.2SEM 圖像184
8.3.3XRD、Raman、PL 和紫外可見(jiàn)吸收?qǐng)D譜186
8.3.4XPS 圖譜189
8.3.5SERS 增強(qiáng)機(jī)制191
參考文獻(xiàn)193