PET基底磁控共濺射SiOx-f（DCPD/MA）

第1 章
　 緒論 / 001
1.1　研究的目的和意義 / 001
1.2　SiOx 薄膜類阻隔包裝材料研究進(jìn)展 / 002
1.2.1　SiOx薄膜制備方法 / 002
1.2.2　SiOx薄膜類氣體阻隔薄膜制備及發(fā)展 / 007
1.2.3　聚合物表面鍍膜類高阻隔包裝材料的阻隔機(jī)制 / 012
1.3　磁控共濺射含高分子靶材的復(fù)合薄膜研究進(jìn)展 / 021
1.3.1　磁控單靶濺射高分子靶材 / 022
1.3.2　磁控共濺射氧化硅/高分子復(fù)合薄膜 / 023
1.4　本文主要研究的內(nèi)容 / 026
第2 章
　 試驗設(shè)計及表征方法 / 029
2.1　引言 / 029
2.2　高分子靶材的設(shè)計及制備 / 030
2.2.1　阻隔薄膜的設(shè)計要求 / 030
2.2.2　高分子靶材設(shè)計的思路 / 031
2.2.3　高分子靶材DCPD/MA的制備 / 032
2.3　磁控共濺射沉積薄膜基本工藝過程 / 035
2.3.1　磁控共濺射實驗設(shè)備 / 035
2.3.2　薄膜沉積基本工藝過程 / 036
2.4　 磁控濺射過程中等離子組分測量的原位質(zhì)譜法 / 039
2.5　SiOx-(DCPD/MA)f 薄膜分析與表征方法 / 042
2.5.1　形貌表征方法 / 042
2.5.2　組織成分及結(jié)構(gòu)分析方法 / 043
2.5.3　性能檢測方法 / 044
第3 章
　磁控濺射過程中等離子組分的分析 / 047
3.1　磁控濺射SiO2 靶材的等離子組分的測量 / 047
3.1.1　磁控濺射SiO2靶材等離子組分中的離子檢測 / 047
3.1.2　磁控濺射SiO2靶材等離子組分中的自由基檢測 / 052
3.2　磁控濺射DCPD/MA 靶材等離子組分的測量 / 058
3.2.1　磁控濺射DCPD/MA靶材等離子組分中的離子檢測 / 059
3.2.2　磁控濺射DCPD/MA靶材等離子組分中的自由基檢測 / 066
3.2.3　磁控濺射DCPD/MA靶材的解離路徑 / 072
3.3　本章小結(jié) / 074
第4 章
　磁控濺射沉積SiOx-(DCPD/MA)f 薄膜的工藝研究 / 076
4.1　 磁控濺射沉積SiOx-(DCPD/MA)f 薄膜的特性 / 076
4.1.1　磁控濺射高分子DCPD/MA靶材的沉積特性 / 076
4.1.2　磁控濺射單靶SiO2的沉積特性 / 083
4.1.3　磁控共濺射SiOx-(DCPD/MA)f薄膜的沉積特性及軸向均勻性 / 084
4.2　沉積工藝參數(shù)的研究 / 084
4.2.1　雙靶靶材輸入功率比PDCPD/MA/PSiO2的研究 / 085
4.2.2　工作氣壓的研究 / 087
4.2.3　卷繞速率的研究 / 088
4.2.4　沉積時間的研究 / 090
4.3　本章小結(jié) / 091
第5 章
　SiOx-(DCPD/MA)f 薄膜成分、結(jié)構(gòu)及形貌分析 / 093
5.1　雙靶輸入功率比的影響 / 093
5.1.1　SiOx-(DCPD/MA)f薄膜的成分分析 / 093
5.1.2　SiOx-(DCPD/MA)f薄膜的結(jié)構(gòu)分析 / 107
5.1.3　不同功率比的SiOx-(DCPD/MA)f薄膜的結(jié)構(gòu)形貌 / 111
5.1.4　不同功率比的SiOx-(DCPD/MA)f薄膜的表面形態(tài) / 113
5.2　卷繞速度的影響 / 116
5.2.1　卷繞速度對薄膜結(jié)構(gòu)的影響 / 116
5.2.2　卷繞速度影響薄膜沉積過程的數(shù)學(xué)描述 / 119
5.3　沉積時間的影響 / 122
5.3.1　沉積時間對薄膜成分的影響 / 123
5.3.2　薄膜的深度方向成分分布 / 127
5.4　SiOx-(DCPD/MA)f 薄膜的結(jié)構(gòu)模型 / 134
5.4.1　磁控共濺射過程中Si粒子與高分子鏈段碎片之間的復(fù)合形式 / 134
5.4.2　SiOx-(DCPD/MA)f薄膜的結(jié)構(gòu)模型 / 135
5.5　本章小結(jié) / 138
第6 章
　PET 基底磁控共濺射SiOx-(DCPD/MA)f 薄膜性能及
阻隔機(jī)制的研究 / 140
6.1　 PET 基底磁控共濺射SiOx-(DCPD/MA)f 薄膜的力學(xué)特性 / 141
6.1.1　PET基底磁控共濺射SiOx-(DCPD/MA)f薄膜的拉伸力學(xué)特性 / 141
6.1.2　聚合物基底磁控共濺射SiOx-(DCPD/MA)f薄膜耐折力學(xué)特性 / 144
6.2　SiOx-(DCPD/MA)f 薄膜的氣體阻隔性能 / 147
6.2.1　SiOx-(DCPD/MA)f薄膜對惰性氣體的阻隔性能 / 148
6.2.2　SiOx-(DCPD/MA)f薄膜對O2的阻隔性能 / 151
6.2.3　SiOx-(DCPD/MA)f薄膜對水蒸氣的阻隔性能 / 154
6.3　 SiOx-(DCPD/MA)f 薄膜對重金屬及有機(jī)大分子的阻隔性能 / 155
6.3.1　SiOx-(DCPD/MA)f薄膜對重金屬的阻隔性能 / 155
6.3.2　SiOx-(DCPD/MA)f薄膜對有機(jī)大分子的阻隔性能 / 158
6.3.3　多層阻隔膜的阻隔性能 / 161
6.4　SiOx-(DCPD/MA)f 薄膜的阻隔機(jī)制 / 162
6.4.1　SiOx-(DCPD/MA)f薄膜對惰性氣體的阻隔機(jī)制 / 162
6.4.2　SiOx-(DCPD/MA)f薄膜對O2的阻隔機(jī)制 / 163
6.4.3　SiOx-(DCPD/MA)f薄膜防止重金屬污染物遷移的阻隔機(jī)制 / 165
6.4.4　多層薄膜的阻隔機(jī)制 / 166
6.5　本章小結(jié) / 167
結(jié)論 / 169
參考文獻(xiàn) / 173