電磁混響室

目錄 緒論 第1章 混響室在電磁測(cè)試中的地位 1.1 引言 1.2 電磁場與平面波 1.2.1 平面波的定義與特性 1.2.2 平面波的通用表達(dá)式 1.2.3 遠(yuǎn)場的局部平面波近似處理 緒論 第1章 混響室在電磁測(cè)試中的地位 1.1 引言 1.2 電磁場與平面波 1.2.1 平面波的定義與特性 1.2.2 平面波的通用表達(dá)式 1.2.3 遠(yuǎn)場的局部平面波近似處理 1.2.4 平面波產(chǎn)生的感應(yīng)現(xiàn)象 1.3 有限空間內(nèi)的電磁測(cè)試 1.3.1 小矩形環(huán)的輻射發(fā)射 1.3.2 在TEM室進(jìn)行測(cè)試 1.3.3 在屏蔽暗室進(jìn)行測(cè)量 1.3.4 混響室在有限空間測(cè)試中的地位 1.4 討論 1.4.1 平面波概念的運(yùn)用 1.4.2 混響室測(cè)量的不確定度限值 1.5 參考文獻(xiàn) 第2章 電磁腔體的主要物理特性 2.1 引言 2.2 一維腔體內(nèi)模數(shù)的減少 2.2.1 一維腔體模型 2.2.2 一維波動(dòng)方程求解 2.2.3 本征模計(jì)算 2.2.4 腔體與LC諧振網(wǎng)絡(luò)比較 2.2.5 品質(zhì)因數(shù)對(duì)腔體的貢獻(xiàn) 2.2.6 本征模狀態(tài)下能量耦合優(yōu)化 2.2.7 障礙物引起的本征模頻率偏差 2.2.8 模式攪拌的實(shí)現(xiàn)方法 2.3 空矩形腔體的物理特征 2.3.1 混響室的結(jié)構(gòu)描述 2.3.2 計(jì)算本征模頻率 2.3.3 階本征模 2.3.4 高次模 2.3.5 本征模間隔與模密度 2.3.6 三維腔體的品質(zhì)因數(shù) 2.3.7 腔體的激勵(lì)條件 2.3.8 平面波譜 2.3.9 能量損耗對(duì)平面波頻譜的影響 2.4 三維模式攪拌腔體 2.4.1 模式攪拌的作用 2.4.2 機(jī)械攪拌 2.4.3 實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證模偏移 2.5 討論 2.5.1 關(guān)于混響室?guī)缀谓Y(jié)構(gòu)的討論 2.5.2 關(guān)于RLC振蕩器應(yīng)用 2.5.3 關(guān)于模干涉因素的討論 2.6 參考文獻(xiàn) 第3章 超大尺寸腔體內(nèi)攪拌波的統(tǒng)計(jì)特性 3.1 引言 3.2 理想隨機(jī)電磁場的描述 3.2.1 電磁場假定為一個(gè)隨機(jī)變量 3.2.2 理想隨機(jī)場假定的基本條件 3.2.3 隨機(jī)變量的通用表達(dá)式 3.2.4 概率分布 3.2.5 場振幅值的概率密度函數(shù) 3.2.6 功率變量的概率密度函數(shù) 3.3 理想隨機(jī)場特性的仿真 3.3.1 平面渡譜的構(gòu)建 …… 第4章 混響室物理與技術(shù)參數(shù)的影響 第5章 混響室抗擾度測(cè)試 第6章 混響室輻射發(fā)射測(cè)試 第7章 混響室屏蔽交通測(cè)量 第8章 模式攪拌混響室：研究工具 附錄1 概率論概念 附錄2 矩形腔體品質(zhì)因數(shù)公式 附錄3 總場和總功率變量 附錄4 計(jì)算變量vψ、vη和vθ的方差 附錄5 電偶極子完整公式 收起全部>>