硅納米線及硅納米管

第1章 緒論
1.1 硅納米線概述
1.2 硅納米線的制備
1.3 硅納米線物理特性
1.4 硅納米線應(yīng)用的前期處理
1.5 硅納米線的表征
1.6 硅納米線的應(yīng)用及展望
1.7 硅納米管的制備及應(yīng)用前景
參考文獻(xiàn)
第2章 硅納米線/管的制備
2.1 硅納米線的制備
2.2 生長條件對(duì)硅納米線的影響
2.3 硅納米管制備的理論預(yù)測
2.4 硅納米管制備的實(shí)驗(yàn)實(shí)現(xiàn)
參考文獻(xiàn)
第3章 硅納米線/管的表征方法
3.1 硅納米線/管的表征
3.2 硅納米線/管的形貌
3.3 硅納米線的拉曼光譜
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第4章 硅納米線/管的同步輻射研究
4.1 同步輻射原理
4.2 研究納米材料
4.3 同步輻射研究硅納米線/管
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第5章 硅納米線的氧化物輔助生長機(jī)理
5.1 引言
5.2 硅納米線的金屬VLS催化生長機(jī)理
5.3 硅納米線的氧化物輔助生長機(jī)理
5.4 氧化物輔助生長機(jī)理制備其他一維納米材料
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第6章 硅納米線的摻雜與金屬化
6.1 摻雜硅納米線的種類
6.2 硅納米線的摻雜工藝
6.3 摻雜硅納米線的檢測
6.4 硅納米線的金屬化
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第7章 硅納米線/管的性能
7.1 硅納米線的電學(xué)特性
7.2 硅納米線光學(xué)特性
7.3 硅納米線的光電特性
7.4 硅納米管的性能
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第8章 硅納米線與多孔硅
8.1 多孔硅概述
8.2 多孔硅的制備方法
8.3 多孔硅的形成機(jī)理
8.4 多孔硅的光致發(fā)光
8.5 無酸水熱法多孔硅與電化學(xué)陽極氧化法多孔硅的比較
8.6 多孔硅作為制備硅納米線的模板
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第9章 硅納米線/管的應(yīng)用
9.1 硅納米線的表面改性
9.2 硅納米線應(yīng)用的前期處理及準(zhǔn)備工序
9.3 硅納米線納米電子器件的制備
9.4 各種硅納米線納米電子器件
9.5 硅納米線傳感器的應(yīng)用
9.6 硅納米管的應(yīng)用前景
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