內容簡介電子槍與離子束技術近年來在科學研究和工業(yè)生產中得到了廣泛的應用，尤其在冶金、宇航、電子工業(yè)中材料表面改性等領域的新工藝中更為多見。本書介紹了電子槍與離子束的理論基礎，電子與等離子產生的機理，通過電場、磁場或復合場把產生的荷電粒子束進行聚焦、偏轉、掃描等控制其運動規(guī)律的各種裝置及其設計計算。內容分8章：電子束光學，電子束技術基礎，離子束物理基礎，強流軸向電子槍，偏轉電子槍設計原理，空心陰極（HCD）電子槍，離子束應用技術，S槍離子濺射源的設計。作者基于多年的教學和科研實踐，對內容進行了仔細的選取，力求理論與實際應用相結合，將與電子槍和離子束技術有關的基礎理論與設計方法有機地結合在一起，較詳細地論述了各種電子槍和離子槍的設計原理、設計計算方法及其應用；在內容上做到既具有一定的理論深度和系統(tǒng)性，又對相關設備的設計應用具有實踐上的指導作用，為讀者提供一個精練清晰、系統(tǒng)實用的內容體系。本書適合于真空技術、真空冶金、材料工程、熱處理、焊接等部門從事設計、生產、研究和設備應用與維護的技術人員參考使用，也可供高等學校相關專業(yè)用做教材。
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