金屬陶瓷薄膜及其在光電子技術(shù)中的應(yīng)用

序
前言
第1章 金屬陶瓷薄膜的制備
1.1 金屬陶瓷薄膜制膜材料的選擇和膜系設(shè)計
1.2 金屬陶瓷薄膜制備中的困難與解決途徑
1.3 金屬陶瓷薄膜的制備方法
第2章 金屬陶瓷薄膜的分析方法
2.1 X射線衍射和電子衍射分析方法
2.2 電子能譜分析方法
2.3 紅外光譜和拉曼光譜分析方法
2.4 紫外-可見光譜分析方法
2.5 橢圓偏振光譜分析方法
2.6 Z-掃描分析方法
2.7 薄膜應(yīng)力分析方法
第3章 金屬陶瓷薄膜的理論基礎(chǔ)
3.1 Maxwell-Garnett彌散微結(jié)構(gòu)理論
3.2 Bruggeman聚集微結(jié)構(gòu)理論
3.3 Bergman滲透閾理論
3.4 Ping Sheng雙團簇微結(jié)構(gòu)理論
3.5 Stroud-Milton-De復(fù)折射率理論
3.6 多相混合模型
3.7 介電函數(shù)理論對光學(xué)雙穩(wěn)態(tài)的計算
第4章 金屬陶瓷薄膜的光學(xué)性能
4.1 一般光學(xué)性能
4.2 光學(xué)共振吸收
4.3 光學(xué)帶隙
4.4 光學(xué)雙穩(wěn)態(tài)
4.5 拉曼散射
第5章 金屬陶瓷薄膜的電磁學(xué)性能
5.1 導(dǎo)電性能
5.2 巨磁電阻效應(yīng)
5.3 巨霍爾效應(yīng)
5.4 介電性能
第6章 金屬陶瓷薄膜的若干應(yīng)用
6.1 在光子技術(shù)方面的應(yīng)用
6.2 在計算機技術(shù)方面的應(yīng)用
6.3 在微、納電子技術(shù)方面的應(yīng)用
6.4 在傳感器技術(shù)方面的應(yīng)用
6.5 多頻三維只讀光盤