抗輻射電子學：輻射效應及加固原理

第一章 緒論
第二章 主要的強輻射環(huán)境
2.1 空間輻射環(huán)境
2.1.1 宇宙射線
2.1.2 太陽風
2.1.3 極光輻射
2.1.4 范·艾倫輻射帶
2.2 核爆炸的核輻射環(huán)境
2.3 核電磁脈沖環(huán)境
2.3.1 高空核電磁脈沖
2.3.2 低空及地面核爆炸電磁脈沖
2.3.3 地下核爆炸電磁脈沖
2.4 內(nèi)電磁脈沖
2.5 系統(tǒng)電磁脈沖
2.5.1 絕緣體的康普頓充電效應
2.5.2 金屬導體的丁輻射感生電流
2.6 高功率微波
2.7 幾種實驗裝置的輻射環(huán)境
參考文獻
第三章 MOS場效應晶體管的輻射效應及加固技術
3.1 概述
3.2 MOS場效應晶體管（MOSFET）的主要參數(shù)
3.3 電離輻射在SiO2中形成空間電荷的機制
3.3.1 空穴遷移模型
3.3.2 SiO2中空間電荷的結構
3.3.3 SiO2中俘獲的正空間電荷的激活能
3.3.4 俘獲空穴的退火過程
3.3.5 鈉離子的影響
3.4 電離輻射在Si/SiO2界面產(chǎn)生的界面態(tài)
3.4.1 界面態(tài)特征
3.4.2 MOS器件電離輻射產(chǎn)生界面態(tài)的過程
3.4.3 影響界面態(tài)建立過程的因素
3.4.4 界面態(tài)建立的模型
3.4.5 MOSFET低溫輻射后退火過程中形成界面態(tài)的研究
3.4.6 電離輻射產(chǎn)生的界面態(tài)在禁帶能級中的轉移
3.5 MOSFET的電離輻射效應及加固技術
3.5.1 MOSFET的電離輻射效應
3.5.2 襯底材料的影響及加固選擇
3.5.3 氧化的環(huán)境、溫度和氧化后的退火對輻射效應的影響
3.5.4 氧化層厚度的影響
3.5.5 其他影響因素
3.5.6 MOS器件抗電離輻射加固的原則
參考文獻
第四章 雙極型、結型場效應、靜電感應型晶體管的輻射效應及加固技術
4.1 概述
4.2 雙極晶體管的輻射效應及加固技術
4.2.1 輻射對晶體管電參數(shù)的影響
4.2.2 γ射線或X射線的瞬時輻射效應
4.2.3 雙極型晶體管抗輻射加固技術
4.3 幾種提高抗瞬時電離輻射能力的晶體管補償電路
4.3.1 射極電阻負反饋
4.3.2 二極管分流
4.3.3 二極管鉗位
4.3.4 負反饋分流作用
4.4 結型場效應晶體管（JFET）的輻射效應和加固技術
4.4.1 結型場效應晶體管的結構及其主要參數(shù)
4.4.2 JFET的輻射效應
4.5 靜電感應晶體管（SIT）的中子輻射效應
4.5.1 靜電感應晶體管的輻射效應
4.5.2 雙極模式靜電感應晶體管（BSIT）的中子輻射效應
……
第五章　集成電路的輻射效應及加固技術
第六章　強電磁場對電子系統(tǒng)的損傷效應及加固方法
第七章　電子系統(tǒng)的總體加固設計及評價
第八章　核輻射與電磁脈沖效應的測試方法
第九章　半導體器件和集成電路輻射效應的計算機模擬分析預測