納米層狀二硫化鉬制備與應用

目錄
前言
第1章 緒論 1
1.1 納米層狀MoS2材料概述 1
1.2 納米層狀MoS2材料制備方法 3
1.2.1 微機械剝離法 3
1.2.2 鋰離子插層法 4
1.2.3 液相超聲法 5
1.2.4 水熱或溶劑熱法 5
1.2.5 化學氣相沉積法 5
1.3 納米層狀MoS2的主要應用 6
1.3.1 潤滑性能 6
1.3.2 光電性能 7
1.3.3 氣體與光電傳感器件 8
1.3.4 催化性能 9
1.4 納米層狀MoS2材料發(fā)展趨勢 9
第2章 插層-爆炸法剝離制備納米層狀MoS2 11
2.1 納米層狀MoS2插層-爆炸法制備與表征 11
2.1.1 材料制備方法 11
2.1.2 材料物相與晶體結(jié)構(gòu)表征 13
2.1.3 插層-爆炸法剝離機理分析 19
2.2 氧化插層與高能爆炸工藝優(yōu)化 19
2.2.1 氧化插層工藝優(yōu)化 19
2.2.2 高能爆炸工藝設計 20
2.2.3 氧化插層MoS2表征分析 20
2.2.4 氧化插層機理分析 23
2.2.5 高能爆炸剝離MoS2材料表征分析 24
2.2.6 高能爆炸剝離機理分析 31
2.3 高能爆炸法剝離制備二維材料的普適性 32
2.3.1 高能爆炸法剝離納米層狀WS2與h-BN 32
2.3.2 物相與晶體結(jié)構(gòu)表征 33
2.3.3 二維材料形貌表征 36
2.4 小結(jié) 39
第3章 插層-還原法剝離制備納米層狀MoS2 40
3.1 氧化材料制備方法 40
3.2 插層-還原法的工藝優(yōu)化 41
3.2.1 氧化插層反應的產(chǎn)率分析 42
3.2.2 還原反應中的葡萄糖熱差分析的研究 47
3.2.3 還原剝離反應后的提純方式研究 49
3.2.4 還原剝離反應的產(chǎn)率分析 53
3.3 納米層狀MoS2材料插層-還原剝離機理研究 56
3.3.1 材料物相表征 57
3.3.2 材料分子結(jié)構(gòu)表征 58
3.3.3 材料元素與結(jié)構(gòu)表征 59
3.4 小結(jié) 61
第4章 納米層狀MoS2復合材料電催化析氫性能 63
4.1 引言 63
4.2 納米層狀MoS2/CNT復合材料與性能測試 64
4.2.1 納米層狀MoS2復合材料制備 64
4.2.2 電催化析氫性能測試 64
4.2.3 物相與晶體結(jié)構(gòu)表征分析 65
4.2.4 表面形貌分析 66
4.2.5 復合材料電催化析氫性能研究 71
4.3 氫吸附自由能 77
4.3.1 納米層狀MoS2/CNT復合材料HER**性原理計算 77
4.3.2 模型構(gòu)建與計算方法 78
4.3.3 計算結(jié)果與分析 80
4.3.4 1T-MoS2電催化析氫性能計算 84
4.4 小結(jié) 89
第5章 納米層狀MoS2復合材料磁性能 90
5.1 引言 90
5.2 納米層狀MoS2材料磁性能測試 92
5.2.1 磁化測試 92
5.2.2 磁力顯微鏡測試 92
5.2.3 磁化性能分析 92
5.2.4 磁力顯微鏡分析 96
5.3 納米層狀MoS2磁性**性原理計算 97
5.4 1T-MoS2磁性能計算 100
5.5 小結(jié) 102
第6章 鋰離子插層法剝離制備納米多孔MoS2基復合材料 104
6.1 引言 104
6.2 鋰離子插層法剝離多孔納米MoS2 104
6.3 鋰離子插層法剝離多孔納米MoS2基復合材料 108
6.4 鋰離子插層法批量化剝離制備多孔納米MoS2 114
6.5 納米Pt-MoS2/CNT制備與電催化析氫性能 117
6.6 小結(jié) 121
參考文獻 122