先進(jìn)計(jì)算光刻

定　價(jià)：￥130.00

作　者：	李艷秋等
出版社：	科學(xué)出版社
叢編項(xiàng)：
標(biāo)　簽：	暫缺

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ISBN：	9787030781246	出版時(shí)間：	2024-10-01	包裝：	精裝
開(kāi)本：	16開(kāi)	頁(yè)數(shù)：		字?jǐn)?shù)：

內(nèi)容簡(jiǎn)介

　　先進(jìn)計(jì)算光刻技術(shù)是集成電制造裝備和工藝的核心技術(shù)?！断冗M(jìn)計(jì)算光刻》主要介紹作者在20余年從事光刻機(jī)研發(fā)中，建立的先進(jìn)計(jì)算光刻技術(shù)，包括矢量計(jì)算光刻、快速-全芯片計(jì)算光刻、高穩(wěn)定-高保真計(jì)算光刻、光源-掩模-工藝多參數(shù)協(xié)同計(jì)算光刻等，能夠?qū)崿F(xiàn)快速-高精度-全曝光視場(chǎng)-低誤差敏感度的高性能計(jì)算光刻。矢量計(jì)算光刻包括零誤差、全光路嚴(yán)格的矢量光刻成像模型及OPC和SMO技術(shù)?？焖?全芯片計(jì)算光刻包括壓縮感知、貝葉斯壓縮感知、全芯片壓縮感知計(jì)算光刻技術(shù)。高穩(wěn)定-高保真計(jì)算光刻包括低誤差敏感度的SMO技術(shù)、全視場(chǎng)多目標(biāo)SMO技術(shù)、多目標(biāo)標(biāo)量和矢量光瞳優(yōu)化技術(shù)。光源-掩模-工藝多參數(shù)協(xié)同計(jì)算光刻包括含偏振像差、工件臺(tái)振動(dòng)誤差、雜散光誤差的光刻設(shè)備-掩模-工藝多參數(shù)協(xié)同優(yōu)化技術(shù)。解決傳統(tǒng)計(jì)算光刻在零誤差假設(shè)、局域坐標(biāo)系、理想遠(yuǎn)心、單個(gè)視場(chǎng)點(diǎn)獲得的掩模-光源，無(wú)法*佳匹配實(shí)際光刻系統(tǒng)之所需，導(dǎo)致增加工藝迭代時(shí)間的問(wèn)題。

作者簡(jiǎn)介

暫缺《先進(jìn)計(jì)算光刻》作者簡(jiǎn)介

圖書(shū)目錄

目錄
序
前言
第1章緒論1
1.1 光刻機(jī)和光刻成像1
1.1.1 光刻機(jī)簡(jiǎn)史1
1.1.2 光刻成像及其性能指標(biāo)2
1.1.3 影響光刻成像性能的主要因素3
1.2 傳統(tǒng)分辨率增強(qiáng)技術(shù)7
1.2.1 離軸照明7
1.2.2 相移掩模8
1.2.3 基于規(guī)則的光學(xué)鄰近效應(yīng)校正9
1.2.4 偏振照明9
1.3 計(jì)算光刻技術(shù)11
1.3.1 光刻成像模型11
1.3.2 先進(jìn)計(jì)算光刻目標(biāo)函數(shù)14
1.3.3 先進(jìn)計(jì)算光刻算法16
參考文獻(xiàn)18
第2章矢量計(jì)算光刻技術(shù)24
2.1 矢量光刻成像理論基礎(chǔ)24
2.1.1 二維矢量成像模型24
2.1.2 三維嚴(yán)格矢量光刻成像模型31
2.1.3 二維-三維的矢量光刻成像分析38
2.2 零誤差矢量計(jì)算光刻技術(shù)47
2.2.1 采用矢量成像模型的OPC技術(shù)47
2.2.2 采用矢量成像模型的SMO技術(shù)68
參考文獻(xiàn)88
第3章快速-全芯片計(jì)算光刻技術(shù)92
3.1 壓縮感知計(jì)算光刻技術(shù)92
3.1.1 壓縮感知光源優(yōu)化技術(shù)92
3.1.2 非線性壓縮感知光源-掩模優(yōu)化技術(shù)104
3.2 貝葉斯壓縮感知計(jì)算光刻技術(shù)113
3.2.1 貝葉斯壓縮感知光源優(yōu)化技術(shù)113
3.2.2 非線性貝葉斯壓縮感知光源-掩模優(yōu)化技術(shù)122
3.3 全芯片壓縮感知計(jì)算光刻技術(shù)129
參考文獻(xiàn)133
第4章高穩(wěn)定-高保真計(jì)算光刻技術(shù)137
4.1 誤差對(duì)計(jì)算光刻的影響137
4.1.1 波像差與偏振像差的定義與表征137
4.1.2 波像差對(duì)計(jì)算光刻的影響138
4.1.3 偏振像差對(duì)計(jì)算光刻的影響141
4.1.4 光源非均勻性與雜散光對(duì)計(jì)算光刻的影響142
4.2 高穩(wěn)定-高保真光源-掩模優(yōu)化技術(shù)145
4.2.1 低誤差敏感度的光源-掩模優(yōu)化技術(shù)145
4.2.2 全視場(chǎng)多目標(biāo)光源-掩模優(yōu)化技術(shù)168
4.3 高穩(wěn)定-高保真光瞳優(yōu)化技術(shù)183
4.3.1 多目標(biāo)標(biāo)量光瞳優(yōu)化技術(shù)184
4.3.2 多目標(biāo)矢量光瞳優(yōu)化技術(shù)200
參考文獻(xiàn)212
第5章光源-掩模-工藝多參數(shù)協(xié)同計(jì)算光刻技術(shù)215
5.1 多參數(shù)協(xié)同優(yōu)化技術(shù)基礎(chǔ)215
5.1.1 工藝參數(shù)對(duì)圖形保真的影響215
5.1.2 多目標(biāo)函數(shù)構(gòu)建219
5.1.3 多參數(shù)協(xié)同優(yōu)化方法219
5.2 多參數(shù)協(xié)同優(yōu)化技術(shù)及應(yīng)用222
5.2.1 零誤差光刻系統(tǒng)的多參數(shù)協(xié)同優(yōu)化技術(shù)及應(yīng)用222
5.2.2 非零誤差光刻系統(tǒng)的多參數(shù)協(xié)同優(yōu)化技術(shù)及應(yīng)用227
參考文獻(xiàn)231