薄膜光學(xué)與真空鍍膜技術(shù)

上篇
第1章 緒論
1.1 薄膜光學(xué)概述
1.2 電磁理論基礎(chǔ)
第2章 光學(xué)薄膜特性計(jì)算
2.1 遞推法
2.2 矢量法
2.3 矩陣法
2.4 非均勻介質(zhì)膜特性計(jì)算
第3章 光學(xué)薄膜的普遍定理
3.1 透射定理
3.2 普遍等效定理
3.3 對(duì)稱膜等效定理
3.4 周期性多層膜理論
3.5 誘導(dǎo)透射定理
第4章 膜系設(shè)計(jì)方法
4.1 圖解法
4.2 解析法
4.3 自動(dòng)設(shè)計(jì)法
4.4 其他設(shè)計(jì)法
第5章 常用膜系分析與設(shè)計(jì)
5.1 減反射膜（增透膜）
5.2 反射膜
5.3 分光膜
5.4 截止濾光片
5.5 帶通濾光片
5.6 光波斜入射對(duì)膜系的影響
5.7 光學(xué)薄膜設(shè)計(jì)范例
第6章 光學(xué)薄膜應(yīng)用舉例
6.1 光學(xué)薄膜在導(dǎo)引頭半實(shí)物仿真系統(tǒng)中的應(yīng)用
6.2 光學(xué)薄膜在眼鏡行業(yè)中的應(yīng)用
6.3 截止濾光片的應(yīng)用
6.4 帶通濾光片的應(yīng)用
下篇
概述
第7章 真空鍍膜設(shè)備
7.1 真空基礎(chǔ)知識(shí)
7.2 真空的獲得
7.3 真空的測(cè)量與檢漏
第8章 真空薄膜沉積技術(shù)
8.1 熱蒸發(fā)鍍膜技術(shù)
8.2 濺射鍍膜技術(shù)
8.3 離子鍍膜技術(shù)
8.4 膜厚的監(jiān)控
8.5 獲得均勻膜層的方法
第9章 物理氣相沉積薄膜的結(jié)構(gòu)與特性
9.1 薄膜形成與微觀結(jié)構(gòu)
9.2 薄膜特性
9.3 鍍膜工藝對(duì)薄膜性能的影響
第10章 光學(xué)薄膜的性能測(cè)試
10.1 光學(xué)常數(shù)的測(cè)試
10.2 光學(xué)性能的測(cè)試
10.3 機(jī)械性能的測(cè)試
10.4 其他性能的測(cè)試
第11章 常用光學(xué)薄膜材料
11.1 金屬薄膜
11.2 介質(zhì)薄膜
11.3 特殊材料
附錄
附錄1光學(xué)零件鍍膜分類(lèi)、符號(hào)及標(biāo)注
附錄2光學(xué)薄膜元件環(huán)境適應(yīng)性試驗(yàn)方法
附錄3光學(xué)和光學(xué)儀器光學(xué)薄膜
附錄4ISO9211-1：2010
附錄5ISO9211-2：2010
附錄6ISO9211-3：2008（E）
附錄7ISO9211-4：2006（E）
術(shù)語(yǔ)索引
參考文獻(xiàn)