硅超大規(guī)模集成電路工藝技術：理論、實踐與模型

第1章 引言及歷史展望
　1.1 引言
　1.2 集成電路與平面工藝——促成集成電路產生的幾項關鍵發(fā)明
　1.3 半導體的基本特性
　1.4 半導體器件
　　1.4.1 pn結二極管
　　1.4.2 mos晶體管
　　1.4.3 雙極型晶體管
　1.5 半導體工藝技術的發(fā)展歷程
　1.6 現代科學發(fā)現——實驗、理論與計算機模擬
　1.7 本書的內容安排
　1.8 本章要點小結
　1.9 參考文獻
　1.10習題
第2章 現代cmos工藝技術
　2.1 引言
　2.2 cmos工藝流程
　　2.2.1 cmos工藝流程
　　2.2.2 有源區(qū)的形成
　　2.2.3 用于器件隔離的可選工藝方案——淺槽隔離
　　2.2.4 n阱和p阱的形成
　　2.2.5 用于制備有源區(qū)和阱區(qū)的可選工藝方案
　　2.2.6 柵電極的制備
　　2.2.7 前端或延伸區(qū)（ldd）的形成
　　2.2.8 源漏區(qū)的形成
　　2.2.9 接觸與局部互連的形成
　　2.2.10多層金屬互連的形成
　2.3 本章要點小結
　2.4 習題
第3章 晶體生長、晶圓片制造與硅晶圓片的基本特性
　3.1 引言
　3.2 歷史發(fā)展和基本概念
　　3.2.1 單晶結構
　　3.2.2 晶體中的缺陷
　　3.2.3 原料與提純
　　3.2.4 直拉和區(qū)熔單晶的生長方法
　　3.2.5 圓片的準備和規(guī)格
　3.3 制造方法和設備
　3.4 測量方法
　　3.4.1 電學測試
　　3.4.2 物理測量
　3.5 模型和模擬
　　3.5.1 直拉法單晶生長
　　3.5.2 cz單晶生長期間的摻雜
　　3.5.3 區(qū)域精煉與區(qū)熔（fz）生長
　　3.5.4 點缺陷
　　3.5.5 硅中的氧
　　3.5.6 硅中碳
　　3.5.7 模擬
　3.6 技術和模型的限制及未來趨勢
　3.7 本章要點小結
　3.8 參考文獻
　3.9 習題
第4章 半導體制造——潔凈室、晶圓片清洗與吸雜處理
　4.1 引言
　4.2 歷史的發(fā)展與幾個基本概念
　　4.2.1 第一個層次的污染降低:超凈化工廠
　　4.2.2 第二個層次的污染降低:晶圓片清洗
　　4.2.3 第三個層次的污染降低:吸雜處理
　4.3 制造方法與設備
　　4.3.1 第一個層次的污染降低:超凈化工廠
　　4.3.2 第二個層次的污染降低:晶圓片清洗
　　4.3.3 第三個層次的污染降低:吸雜處理
　4.4 測量方法
　　4.4.1 第一個層次的污染降低:超凈化工廠
　　4.4.2 第二個層次的污染降低:晶圓片清洗
　　4.4.3 第二個層次的污染降低:吸雜處理
　4.5 模型與模擬（模型化方法與模擬技術）
　　4.5.1 第一個層次的污染降低:超凈化工廠
　　4.5.2 第二個層次的污染降低:晶圓片清洗
　　4.5.3 第三個層次的污染降低:吸雜處理
　4.6 工藝技術與模型方面的限制因素及未來的發(fā)展趨勢
　4.7 本章要點小結
　4.8 參考文獻
　4.9 習題
第5章 光刻
第6章 熱氧化和si-sio2界面
第7章 擴散
第8章 離子注入
第9章 薄膜淀積
第10章 刻蝕
第11章 后端工藝
附錄
術語表