集成光路

第1章集成光路概述
1.1定義
1.2發(fā)展
1.3特點(diǎn)
1.4制作集成光路所需的技術(shù)
1.5本書(shū)的結(jié)構(gòu)
第2章光波導(dǎo)理論
2.1光波導(dǎo)概述
2.2折射率突變型二維光波導(dǎo)
2.3折射率漸變型二維光波導(dǎo)
2.4三維光波導(dǎo)
2.5三維光波導(dǎo)的實(shí)例
2.6波導(dǎo)光的散射與傳輸損耗
第3章光波導(dǎo)的模耦合理論
3.1模耦合理論的基本概念
3.2模耦合的一般理論
第4章光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的光柵理論
4.1光柵的分類
4.2光柵耦合
4.3共線耦合
4.4共面耦合
4.5導(dǎo)模-輻射模耦合
第5章光波導(dǎo)的調(diào)制
5·1調(diào)制方法的分類
5·2利用電光效應(yīng)的調(diào)制
5·3利用聲光效應(yīng)的調(diào)制
5·4利用磁光效應(yīng)的調(diào)制
5·5利用熱光效應(yīng)的調(diào)制
5·6利用非線性光學(xué)效應(yīng)的調(diào)制
附錄典型的光學(xué)常數(shù)
第6章光波導(dǎo)的材料與制作技術(shù)
6.1典型材料與制作技術(shù)
6.2高分子薄膜波導(dǎo)
6.3玻璃波導(dǎo)
6.4非晶質(zhì)硫硒碲化合物薄膜波導(dǎo)
6.5LiNbO3波導(dǎo)
6.6其他波導(dǎo)
6.7薄膜淀積型波導(dǎo)用的SiO2/Si襯底
附錄各種波導(dǎo)的特性與光學(xué)材料的折射率
第7章集成光路的精細(xì)加工技術(shù)
7.1精細(xì)加工工藝
7.2圖形形成技術(shù)
7.3加工技術(shù)
7.4三維光波導(dǎo)的制作方法
7.5光柵的制作方法
附錄1用照相縮小法制作光掩模
附錄2用激光束直接繪圖法制作光波導(dǎo)圖形
第8章光波導(dǎo)技術(shù)與波導(dǎo)的評(píng)價(jià)
8.1概述
8.2波導(dǎo)光的激勵(lì)方法
8.3傳輸常數(shù)的測(cè)量方法與波導(dǎo)參數(shù)的評(píng)價(jià)
8.4傳輸損耗與散射的測(cè)量方法
第9章無(wú)源光波導(dǎo)器件
9.1概述
9.2光路變換器
9.3分配器
9.4偏振器與模分離器
9.5波長(zhǎng)分波器與合波器
9.6透鏡
第10章有源光波導(dǎo)器件
10.1概述
10.2電光調(diào)制器
10.3聲光控制器件
10.4磁光調(diào)制器
10.5熱光調(diào)制器
10.6二次非線性光學(xué)效應(yīng)器件
10.7三次非線性光學(xué)效應(yīng)器件（光雙穩(wěn)態(tài)器件）
10.8波導(dǎo)激光與波導(dǎo)型放大器件
第11章集成光路實(shí)例
11.1概述
11.2寬帶光調(diào)制器
11.3光學(xué)開(kāi)關(guān).光學(xué)開(kāi)關(guān)陣列與多重光波長(zhǎng)
11.4頻譜分析器
11.5卷積器與相關(guān)器
11.6高密度信息讀取器(光盤拾波器)
11.7連接器
11.8集成光路傳感器
第12章集成光路今后的課題
12.1混合集成光路存在的課題
12.2光電子集成回路
12.3集成光路的發(fā)展方向
參考文獻(xiàn)